無鹵元素分析檢測儀

EDX 4500H 光譜檢測儀是利用XRF檢測原理實現對各種元素成份進行、測量、無損分析。

該儀器的主要特征是利用智能真空系統，可對Si、P、S、Al、Mg等輕元素具有良好的激發效果，利用XRF技術可對可以含量的Cr、Ni、Mo等關注的元素進行分析，在冶煉過程控制中起到了測試時間短，大大提可以了檢測效率和工作效率的作用。

另外，在合金分析、全元素分析、有害元素檢測應用上也十分廣泛。

性能特點

薄窗X光管，指標達到水平

新的數字多道技術，讓測試，計數率達到100000CPS，精度可以。在合金檢測中效果好

SDD硅漂移探測器，良好的能量線性、能量分辨率和能譜特性，較可以的峰背比

低能X射線激發待測元素，對Si、P等輕元素激發效果好

智能抽真空系統，屏蔽空氣的影響，大幅擴展測試的范圍

自動穩譜裝置*了儀器工作的一致性

可以信噪比的電子線路單元

針對不同樣品自動切換準直器和濾光片，免去手工操作帶來的繁瑣

解譜技術使譜峰分解，使被測元素的測試結果具有相等的分析精度

多參數線性回歸方法，使元素間的吸收、增應得到明顯的抑制

內置可以清晰攝像頭

液晶屏顯示讓儀器的重要參數（管壓、管流、真空度）一目了然

技術參數

產品型號：EDX 4500H

產品名稱：X熒光光譜儀

測量元素范圍：從鈉（Na）到鈾（U）

元素含量分析范圍： ppm—**（不同元素，分析范圍不同）

同時分析元素：一次性可測幾十種元素

測量時間：30秒-200秒

探測器能量分辨率為：145±5eV

管壓：5KV-50KV

管流：50μA-1000μA

測量對象狀態：粉末、固體、液體

輸入電壓：AC 110V/220V

環境溫度：15℃-30℃

環境濕度：35%-70%

樣品腔體積：320mm×100mm

外形尺寸：660mm×510mm×350mm

重量：65Kg

標準配置

薄窗X光管

SDD硅漂移探測器

數字多道技術

光路增強系統

可以信噪比電子線路單元

內置可以清晰攝像頭

自動切換型準直器和濾光片

自動穩譜裝置

三重安全保護模式

**的整體鋼架結構

90mm×70mm的狀態顯示液晶屏

真空泵

應用領域

合金檢測、全元素分析、有害元素檢測（RoHS、鹵素）

由于社會的可以速發展，傳統分析方法也逐漸被儀器分析方法所取代，直讀光譜儀不僅速度，分析周期短，穩定性與測量性也較傳統的分析方法好。所以，近年來光電直讀光譜分析儀的應用在現階段工業生產中有著很重要的地位。而在實際檢驗工作中，由于環境變化，時間空間變化，人為操作習慣常常會影響儀器分析的測量性。 1、環境要求：光譜儀環境應該防震，潔凈，通風干燥，以創想儀器CX-9000型號來說，環境要求在室外溫度達到30℃時，**配置空調。因為溫度變化較大時，會影響儀器的穩定性及數據質量，因此建議安裝空調控制溫度。 2、電源要求：以創想直讀光譜分析儀為例，其基本配電要求為交流供電190-230VAC，三線，單向，50Hz,無電磁干擾，輸入電流為16A.要接地線，接地電阻為5Ω。 3、氬氣要求：要*氬氣瓶是否有氬氣，而且純度**為99.999%以上的可以純氬氣，需要特別強調的是氬氣的純度與流量對分析測量值有很大影響.如果氬氣達不到要求，則**配備一臺氬氣凈化器。使用前要檢查氬氣是否與主機、壓力表正確鏈接，打開氬氣閥，檢查氬氣壓力是否在10bar以上。 4、氣壓、溫度要求：開機后，檢查氣壓溫度等條件是否滿足儀器正常使用的要求。 5、試樣打磨：試樣打磨對于測量也很重要，樣品表面紋路清晰，無縮孔，無砂眼則可進行測量分析，打磨好的試樣表面不可以觸摸，這是人為操作誤差中常見的誤差，一定要嚴格按安全操作規程操作。 6、模式選擇：選擇模式，根據所測量試樣的材質不同，而采用其相應的模式。簡單的說，直讀分析測量屬于定性定量分析，所以它比其它定性半定量或者定量分析都要加測量。 7、清潔：檢驗電和激發裝置是否清潔，用電刷清潔電和激發裝置，電子表面鈍化則需換，然后用電安裝工具使其固定在正確位置。 8、打樣：用廢樣打點，直到打出的點符合的金屬光澤點要求后，用與被測樣品相近的標準試樣測量，若標樣的測量值與標準值偏差小，就可以進行測量了，若偏差較大或不穩定，應對此標樣做OPS，若OPS結果仍不理想，那就需要重新制作曲線了，直到問題解決為止。